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消息稱三星、臺積電3nm良品率約50% 仍在努力實現(xiàn)60%以上良品率目標(biāo)

2023-10-09 10:01:25   作者:   來源:C114通信網(wǎng)   評論:0  點擊:


  據(jù)報道,業(yè)內(nèi)人士本月 4 日分析稱,三星電子、臺積電的 3nm 工藝良品率目前都在 50% 左右。

  報道稱,此前有消息表示三星電子的 3nm 良品率超過 60%,且已經(jīng)向中國客戶交付了一款芯片,但由于該工藝省略了邏輯芯片中的 SRAM,因此很難將其視為“完整的 3nm 芯片”。

  業(yè)界認(rèn)為,盡管三星已經(jīng)率先量產(chǎn)重點發(fā)展的 3nm 全柵極技術(shù)(GAA),但它的產(chǎn)量還不足以影響大客戶。在這種技術(shù)中,由于柵極環(huán)繞在構(gòu)成半導(dǎo)體的晶體管中電流通道的四邊,與此前環(huán)繞三邊的工藝相比,難度自然會增加。一位熟悉三星的人士透露,“要贏得高通等大客戶明年的 3nm 移動芯片訂單,良率至少需要提高到 70%。”

  至于臺積電,雖然作為目前唯一一家擁有 3nm 量產(chǎn)記錄的公司,但其產(chǎn)量同樣低于最初預(yù)期。有分析師表示,臺積電 3nm 工藝中使用了與上一代工藝相同的 FinFET 結(jié)構(gòu),可能“未能控制”過熱問題。

  當(dāng)前兩家公司仍在努力實現(xiàn) 60% 以上良品率的目標(biāo)。臺積電計劃在明年量產(chǎn) N3E、N3P、N3X、N3AE 等,重點就是提高良品率降低成本。

  此外,一位半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士透露稱,三星、臺積電和英特爾都在準(zhǔn)備 2nm 工藝,但與 3nm 相比,性能和功耗效率的提升“并不明顯”,因此預(yù)計 3nm 工藝芯片的需求持續(xù)時間將超過預(yù)期。

  據(jù)此前報道,天風(fēng)國際分析師郭明錤上月末在 X 平臺(原推特)發(fā)文,針對目前蘋果 iPhone 15 Pro 手機(jī)過熱問題進(jìn)行了解讀,并表示“與臺積電 3nm 制程無關(guān)”。

  

 

  郭明錤稱:“我的調(diào)查指出,iPhone 15 Pro 系列的過熱問題,與臺積電的 3nm 制程無關(guān),主要很可能是為了讓重量更輕,因此對散熱系統(tǒng)設(shè)計作出了妥協(xié),像是散熱面積較小、采用鈦合金影響散熱效果等。預(yù)計蘋果將會通過更新系統(tǒng)修復(fù)此問題,但除非降低處理器性能,否則改善效果可能會有限。如果蘋果沒有妥善解決這個問題,可能會不利于 iPhone 15 Pro 系列產(chǎn)品周期的出貨量。”

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